水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī)，環(huán)氧樹脂分散機(jī)，水性環(huán)氧樹脂分散設(shè)備，涂料分散機(jī)，樹脂分散機(jī)

水性環(huán)氧樹脂通常是指環(huán)氧樹脂以微粒、液滴或膠體形式分散于水相中所形成的乳液、水分散體或水溶液，三者之間的區(qū)別在于環(huán)氧樹脂分散相的粒徑不同。                                                                            

水性環(huán)氧樹脂分散后可以制備水性環(huán)氧樹脂涂料，一般有四種方式，較為簡單直接的是機(jī)械法，機(jī)械法即直接乳化法，可用膠體磨、球磨機(jī)、砂磨機(jī)等設(shè)備先將固體環(huán)氧樹脂預(yù)先磨成微米級(jí)的環(huán)氧樹脂粉末，然后加入乳化劑水溶液，再通過機(jī)械攪拌將粒子分散于水中; 或?qū)h(huán)氧樹脂和乳化劑混合，加熱到適當(dāng)?shù)臏囟龋诩ち业臄嚢柘轮饾u加入水而形成乳液。用機(jī)械法制備水性環(huán)氧樹脂乳液的優(yōu)點(diǎn)是工藝簡單，所需乳化劑用量較少，但乳液中環(huán)氧樹脂分散相微粒尺寸較大，粒子形狀不規(guī)則且尺寸分布較寬，所配得的乳液穩(wěn)定性差，粒子之間容易相互碰撞而發(fā)生凝結(jié)現(xiàn)象，并且該乳液的成膜性能也欠佳。
 

當(dāng)然，機(jī)械法存在的問題是可以很好的去解決的，乳液穩(wěn)定性差，可以說明兩個(gè)原因，一是水性環(huán)氧樹脂的粒徑?jīng)]有充分的細(xì)化，二是水性環(huán)氧樹脂沒有更好的分散到水中，形成穩(wěn)定的乳液。如果采用SGN高速剪切研磨分散機(jī)的話就可以解決機(jī)械法存在的問題，使得環(huán)氧樹脂微粒能較為穩(wěn)定地分散在水相中。SGN高速剪切研磨分散機(jī)簡單的將就是將SGN高剪切膠體磨和SGN高剪切分散機(jī)合二為一，形成兩級(jí)的設(shè)備，*級(jí)為膠體磨磨頭，實(shí)現(xiàn)研磨細(xì)化的功能；第二級(jí)為分散機(jī)分散盤，實(shí)現(xiàn)分散均勻的功能。

水性環(huán)氧樹脂研磨分散機(jī)，接觸過SGN上海思峻的人都知道，SGN膠體磨和SGN分散機(jī)在行業(yè)就是較的設(shè)備，SGN膠體磨和國內(nèi)膠體磨相比、SGN分散機(jī)和國內(nèi)分散機(jī)相比都是存在巨大優(yōu)勢(shì)的，而SGN研磨分散機(jī)又是將二者結(jié)合的設(shè)備，處理效果，不言而喻。
 

SGN高速剪切研磨分散機(jī)有很高的線速度，以及*級(jí)磨頭，特殊上深下淺的三級(jí)磨頭結(jié)構(gòu)，一次處理即可滿足細(xì)化要求。*級(jí)刀頭形狀，可以把相對(duì)大塊的物料進(jìn)行初步粉碎，以便能順利通過更細(xì)的兩級(jí)進(jìn)行細(xì)微化研磨。     磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下淺的齒列結(jié)構(gòu)，相較溝槽是直線，同級(jí)的溝槽深度一樣的磨頭，可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級(jí)磨齒，但他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。第二級(jí)分散盤，無論是在分散盤的結(jié)構(gòu)、還是定轉(zhuǎn)子的間隙都有比其他分散盤要精密的多。

GMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表

，環(huán)氧樹脂分散機(jī)，水性環(huán)氧樹脂分散設(shè)備，涂料分散機(jī)，樹脂分散機(jī)，用SGN高速剪切研磨分散機(jī)可獲得納米級(jí)水性環(huán)氧樹脂涂料。

• GRS2000膨潤土防水涂料混合高速分散機(jī)
• GRS2000/4在線式電池隔膜分散機(jī)
• GRS2000/4德國立式分散機(jī)
• GR2000/4德國進(jìn)口高速小型分散機(jī)
• S60S60間歇式高剪切分散乳化機(jī)
• S55S55德國高剪切分散乳化機(jī)
• GMD2000德國超細(xì)研磨機(jī)
• GMD2000鋰電池分散機(jī)
• GRS2000管線式立式分散機(jī)
• GDG高剪切升降式分散機(jī)